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中国科学院半导体研究所机构知识库
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资助机构：This research is supported by the 973 Program of China (Grant Nos. 2006CB604904 and 2006CB604908) and the National Nature Science Foundation of China (Grant Nos. 60676029, 60990315 and 60625402). The authors are sincerely grateful to Drs. Zhong-chao Fan at Engineering Research Center of Semiconductor Integrated Technology, Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Science, and Drs. Junjie Li at Laboratory of Micro-fabrication, Institute of Physics, Chinese Academy of Science, for valuable discussions, and to Mrs. Ying Hu and Mrs. Pin Liang for their help and encouragement throughout the course of work.
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作者:
Peng YS (Peng Y. S.)
;
Xu B (Xu B.)
;
Ye XL (Ye X. L.)
;
Niu JB (Niu J. B.)
;
Jia R (Jia R.)
;
Wang ZG (Wang Z. G.)
;
Peng, YS, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, Beijing 100083, Peoples R China. 电子邮箱地址: cynthia@semi.ac.cn
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提交时间：2010/08/17
