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改善氮化镓基高电子迁移率晶体管栅极肖特基性能的结构 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2006-07-05, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  王晓亮;  王翠梅;  胡国新;  王军喜;  李建平;  曾一平
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双异质结构氮化镓基高电子迁移率晶体管结构及制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2006-06-14, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  王晓亮;  王翠梅;  胡国新;  王军喜;  李建平;  曾一平;  李晋闽
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提高氮化镓基高电子迁移率晶体管性能的结构及制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2006-06-07, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  王翠梅;  王晓亮;  胡国新;  王军喜;  李建平;  曾一平
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铝镓氮/氮化镓高电子迁移率晶体管的制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2006-02-01, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  王晓亮;  胡国新;  王军喜;  王翠梅;  曾一平;  李晋闽
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wang CM (Wang Cuimei);  Wang XL (Wang Xiaoliang);  Hu GX (Hu Guoxin);  Wang JX (Wang Junxi);  Li HP (Li Jianping);  Wang ZG (Wang Zhanguo);  Wang, XL, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: xlwang@red.semi.ac.cn
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GaN 基HEMT 材料及器件研究 学位论文
, 北京: 中国科学院半导体研究所, 2006
作者:  王翠梅
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Room temperature mobility above 2100 cm2/Vs in Al0.3Ga0.7N/AIN/GaN heterostructures grown on sapphire substrates by MOCVD 会议论文
Physica Status Solidi C - Current Topics in Solid State Physics丛书标题: PHYSICA STATUS SOLIDI C-CURRENT TOPICS IN SOLID STATE PHYSICS, Rust, GERMANY, SEP 18-22, 2005
作者:  Wang, XL;  Wang, CM;  Hu, GX;  Wang, JX;  Li, JP;  Wang, XL, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China.
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Molecular-beam Epitaxy  2-dimensional Electron-gas  Bulk Gan  Optimization  Layers  Hemts  
Influence of Al content on electrical and structural properties of Si-doped AlxGa1-xN/GaN HEMT structures 会议论文
Physica Status Solidi C - Current Topics in Solid State Physics丛书标题: PHYSICA STATUS SOLIDI C-CURRENT TOPICS IN SOLID STATE PHYSICS, Rust, GERMANY, SEP 18-22, 2005
作者:  Wang, CM;  Wang, XL;  Hu, GX;  Wang, JX;  Li, JP;  Wang, CM, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China.
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High Breakdown Voltage  Mobility Transistors  Heterostructures  Sapphire  Ganhemts  
Deep levels in high resistivity GaN epilayers grown by MOCVD 会议论文
Physica Status Solidi C - Current Topics in Solid State Physics丛书标题: PHYSICA STATUS SOLIDI C-CURRENT TOPICS IN SOLID STATE PHYSICS, Rust, GERMANY, SEP 18-22, 2005
作者:  Fang, CB;  Wang, XL;  Wang, JX;  Liu, C;  Wang, CM;  Hu, GX;  Li, JP;  Li, CJ;  Wang, XL, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China.
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Thermally Stimulated Current  Gallium Nitride  Defects  
无权访问的条目 期刊论文
作者:  Fang CB;  Wang XL;  Hu GX;  Wang JX;  Wang CM;  Li JM;  Wang, XL, Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Beijing 100083, Peoples R China. E-mail: xlwang@red.semi.ac.cn
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