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一种制作纳米压印印章的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010139179.0, 公开日期: 2011-08-30
发明人:  刘宏伟;  阚强;  王春霞;  陈弘达
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一种利用光谱强度变化检测介质折射率变化的装置 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010139176.7, 公开日期: 2011-08-30
发明人:  刘宏伟;  阚强;  王春霞;  陈弘达
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利用全反射角的改变进行传感的折射率传感方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN200810240936.6, 公开日期: 2011-08-30
发明人:  於丰;  阚强;  许兴胜;  王春霞;  刘宏伟;  陈弘达
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