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高均匀性(In)GaAsP/(AlGa)0.5In0.5P外延片的生长方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2009-02-04, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  仲莉;  马骁宇
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采用损耗微调波导实现阵列波导光栅通道均匀性的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2007-06-13, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  安俊明;  李建光;  王红杰;  吴远大;  胡雄伟
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可提高砷化铝氧化均匀性的外延片承载装置 专利
专利类型: 实用新型, 申请日期: 2006-05-03, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  佟存柱;  牛智川;  韩勤;  杜云;  吴荣汉
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金属有机物化学沉积设备的反应室 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010033963.3, 公开日期: 2011-08-31
发明人:  冉军学;  王晓亮;  胡国新;  肖红领;  殷海波;  张露;  李晋闽
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用于MOCVD系统中控制外延片发光波长及均匀性的装置与方法 专利
专利类型: 发明, 公开日期: 2014-01-22
发明人:  纪攀峰;  马平;  王军喜;  胡强;  冉军学;  曾一平;  李晋闽
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