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生长高迁移率氮化镓外延膜的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2005-12-07, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  王晓亮;  胡国新;  王军喜;  李建平;  曾一平;  李晋闽
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生长高阻氮化镓外延膜的方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2005-12-07, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  王晓亮;  胡国新;  王军喜;  冉军学;  曾一平;  李晋闽
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氮化镓高电子迁移率晶体管的结构及制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2005-12-07, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:  王晓亮;  胡国新;  王军喜;  曾一平;  李晋闽
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  冉军学;  王晓亮;  胡国新;  王军喜;  李建平;  曾一平;  李晋闽
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wang Xiaoling;  Wang Ciumei;  Hu Guoxin;  Wang Junxi;  Liu Xinyu;  Liu Jian;  Ran Junxue;  Qian He;  Zeng Yiping;  Li Jinmin
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无权访问的条目 期刊论文
作者:  Wang Xiaoliang;  Liu Xinyu;  Hu Guoxin;  Wang Junxi;  Ma Zhiyong;  Wang Cuimei;  Li Jianping;  Ran Junxue;  Zheng Yingkui;  Qian He;  Zeng Yiping;  Li Jinmin
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