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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 王秀平 ; 杨晓红; 韩勤; 鞠研玲; 杜云; 朱彬; 王杰; 倪海桥; 贺继方; 王国伟; 牛智川
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Yang XH (Yang Xiaohong); Xu XL (Xu Xiulai); Wang XP (Wang Xiuping); Ni HQ (Ni Haiqiao); Han Q (Han Qin); Niu ZC (Niu Zhichuan); Williams DA (Williams David A.); Yang, XH, Cavendish Lab, Hitachi Cambridge Lab, JJ Thompson Ave, Cambridge CB3 0HE, England.E-mail Address: xhyang@red.semi.ac.cn
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| 在电子束曝光前对涂有光刻胶的晶片进行聚焦调节的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010102016.5, 公开日期: 2011-08-30
发明人: 王秀平; 杨晓红; 韩勤
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| 一种提高电子束曝光效率的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010201513.0, 公开日期: 2011-08-30
发明人: 王秀平; 杨晓红; 韩勤; 王杰; 刘少卿
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| 一种制作可调谐共振腔增强型探测器中间P型电极的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010263067.6, 公开日期: 2011-08-30
发明人: 王杰; 韩勤; 杨晓红; 王秀平; 刘少卿
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| 用于电子束光刻胶PMMA的显影液及其配制方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: CN201010101998.6, 公开日期: 2011-08-30
发明人: 王秀平; 杨晓红; 韩勤
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