可提高砷化铝氧化均匀性的外延片承载装置
佟存柱; 牛智川; 韩勤; 杜云; 吴荣汉
2006-05-03
公开日期2009-06-04 ; 2009-06-11
专利类型实用新型
申请日期2004-12-02
语种中文
申请号CN200420009923.5
文献类型专利
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/3333
专题中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
佟存柱,牛智川,韩勤,等. 可提高砷化铝氧化均匀性的外延片承载装置[P]. 2006-05-03.
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