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| 自适应柔性层制备无裂纹硅基Ⅲ族氮化物薄膜的方法 | |
吴洁君; 黎大兵 ; 陆沅; 韩修训; 李杰民; 王晓辉; 刘祥林; 王占国
| |
| 2005-12-28 | |
| 公开日期 | 2009-06-04 ; 2009-06-11 |
| 专利类型 | 发明 |
| 申请日期 | 2004-06-15 |
| 语种 | 中文 |
| 申请号 | CN200410048229.9 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/3149 |
| 专题 | 中国科学院半导体研究所（2009年前） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 吴洁君,黎大兵,陆沅,等. 自适应柔性层制备无裂纹硅基Ⅲ族氮化物薄膜的方法[P]. 2005-12-28. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 200410048229.pdf（683KB） | 限制开放 | -- | 请求全文 | |||
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