| 缓解MOCVD工艺中硅衬底与氮化镓薄膜间应力的方法 | |
| 冯玉霞; 杨少延; 魏鸿源; 焦春美; 孔苏苏 | |
| 专利权人 | 中国科学院半导体研究所 |
| 公开日期 | 2014-06-11 |
| 授权国家 | 中国 |
| 专利类型 | 发明 |
| 学科领域 | 半导体材料 |
| 申请日期 | 2014-02-21 |
| 申请号 | CN201410058985.3 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/25730 |
| 专题 | 中科院半导体材料科学重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 冯玉霞,杨少延,魏鸿源,等. 缓解MOCVD工艺中硅衬底与氮化镓薄膜间应力的方法. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 缓解MOCVD工艺中硅衬底与氮化镓薄膜间（1519KB） | 限制开放 | 使用许可 | 请求全文 | |||
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