一种提高光栅外腔激光器光学质量的方法
吕雪芹; 金鹏; 王占国
专利权人中国科学院半导体研究所
公开日期2011-08-31
授权国家中国
专利类型发明
摘要本发明公开了一种提高光栅外腔激光器光学质量的方法,该方法是在现有光路(2)中安装一光阑(1),进而提高光栅外腔激光器的光学质量,特别是减小光谱线宽。本发明提供的这种提高光栅外腔激光器光学质量、特别是减小光谱线宽的方法,简单、有效,具有较强的实际应用价值。
部门归属中科院半导体材料科学重点实验室
专利号CN200910236704.8
语种中文
专利状态公开
申请号CN200910236704.8
专利代理人周国城
文献类型专利
条目标识符http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22251
专题中科院半导体材料科学重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
吕雪芹,金鹏,王占国. 一种提高光栅外腔激光器光学质量的方法. CN200910236704.8.
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