| 一种化学气相淀积外延设备用的进气装置 |
| 朱建军; 王海; 史永生
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| 专利权人 | 中国科学院半导体研究所
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| 公开日期 | 2011-08-30
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| 授权国家 | 中国
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| 专利类型 | 实用新型
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| 摘要 | 本实用新型公开了一种化学气相淀积外延设备用的进气装置，该装置包含：一进气法兰盘，该法兰盘与筛板法兰通过密封胶圈密封连接；一匀气筛板，该匀气筛板嵌装入该进气法兰盘底面中央的圆形沉槽中；一中层筛板，该中层筛板与筛板法兰通过密封胶圈密封连接，中层筛板上的管与筛板法兰所对应的管对接在一起；一筛板法兰，该筛板法兰与反应腔密封连接。该装置将各种不同种类的原料气通过多个喷气筛孔喷射进入反应室内，并且不同的原料气相互交错，空间上分布均匀。该装置加工工艺简单，成本低，成品率高，应用在半导体外延材料制备过程中，该装置结构简单，易于清洗，有利于提高工艺的稳定性和重复性。 |
| 部门归属 | 集成光电子学国家重点实验室
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| 专利号 | CN200920222264.6
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| 语种 | 中文
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| 专利状态 | 公开
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| 申请号 | CN200920222264.6
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| 专利代理人 | 周国城
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| 文献类型 | 专利
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| 条目标识符 | http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/22031
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| 专题 | 集成光电子学国家重点实验室
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
朱建军,王海,史永生. 一种化学气相淀积外延设备用的进气装置. CN200920222264.6.
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