SEMI OpenIR  > 中国科学院半导体研究所(2009年前)
纳米二氧化钒薄膜的制备及红外光学性能
梁继然; 胡明; 王晓东; 李贵柯; 季安; 杨富华; 刘剑; 吴南健; 陈弘达
2009
Source Publication物理化学学报
Volume25Issue:8Pages:1523-1529
Abstract采用双离子束溅射方法在Si_3N_4/SiO_2/Si基底表面沉积氧化钒薄膜,在氮气气氛下热处理获得二氧化钒薄膜.利用x射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和X射线光电子能谱(XPS)研究了热处理温度对氧化钒薄膜晶体结构、表面形貌和组分的影响,利用傅里叶变换红外光谱(FT-IR)对二氧化钒薄膜的红外透射性能进行了测试分析.结果表明,所制备的氧化钒薄膜以非晶态V_2O_5;和四方金红石结构VO_2为主,经400℃、2 h热处理后获得了(011)择优取向的单斜金红石结构纳米VO_2薄膜,提高热处理温度至450℃,纳米结构VO_2薄膜的晶粒尺寸减小.FT-IR结果显示,纳米VO_2薄膜透射率对比因子超过0.99,高温关闭状态下透射率接近0.小晶粒尺寸纳米VO_2:薄膜更适合在热光开关器件领域应用.
metadata_83天津大学电子信息工程学院;中国科学院半导体研究所,半导体集成技术工程研究中心;中国科学院半导体研究所
Subject Area光电子学
Funding Organization国家高技术研究发展计划(863)项N,国家自然科学基金,天津市应用基础及前沿技术研究重点项目
Indexed ByCSCD
Language中文
CSCD IDCSCD:3654656
Date Available2010-11-23
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Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.semi.ac.cn/handle/172111/15735
Collection中国科学院半导体研究所(2009年前)
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GB/T 7714
梁继然,胡明,王晓东,等. 纳米二氧化钒薄膜的制备及红外光学性能[J]. 物理化学学报,2009,25(8):1523-1529.
APA 梁继然.,胡明.,王晓东.,李贵柯.,季安.,...&陈弘达.(2009).纳米二氧化钒薄膜的制备及红外光学性能.物理化学学报,25(8),1523-1529.
MLA 梁继然,et al."纳米二氧化钒薄膜的制备及红外光学性能".物理化学学报 25.8(2009):1523-1529.
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